在半导体和显示器(LCD，有机发光二极管)制造过程中，蚀刻和使用化学品的清洗是 不可或缺的过程。在稀释蚀刻/清洗步骤中使用的化学物质和冲洗残留的化学物质时，超纯 水(UPW)是必不可少的。包含极低杂质的超纯水(UPW)需要尽可能接近理论纯水。特别是对 于冲洗过程中使用的超纯水，需要具有以下品质: 

 *总有机碳含量低。

 *电导率(EC)尽可能等同于理论纯水的电导率

 *细小颗粒数量极少。

 *离子成分极低 

         因此，超纯水等级受到严格的质量控制。麦凯利超纯水设备采用三菱化学的离子交换树脂，因为三菱化学能够稳定供应各种差异化和 极其清洁的离子交换树脂。用于超纯水的DIAlON系列离子交换树脂被全球半导体和显示领域的领先公司所 采用。 

       超纯水生产系统(用于半导体和LCD /有机发光二极管制造)由一个主要系统组成，这个 系统包括离子交换、脱气、RO、UV设备等, 以及由紫外线、离子交换、脱气、超滤设备 等组成的UPW系统。离子交换树脂对于彻底去除水中的离子成分是必不可少的，并且使 用离子交换树脂的处理过程对于UPW生产过程至关重要。

 ①SAC: 强酸性阳离子交换树脂使用于阳离子交换床 (UBKO8，UBK10)

 ②WBA: 弱碱性阴离子交换树脂使用于阴离子交换床 (JA310，JA310C)

 ②SBA: 强碱性阴离子交换树脂使用于阴离子交换床 UBA120，UBA100) 

 ③MBP: 强碱性阴离子交换树脂用于MBP (PA312LTUMB，UBA15MBOH)(可再生型) 

              强酸性阳离子交换树脂用于MBP (UBKN1UMB，UBK10MBH)(可再生型

 ④UFP: 混床树脂用于UFP (SMT200L、USMT100、SMT50)(不可再生型) 

 下图显示了脱盐性能(电阻率)和洗脱有机物的量(TOC:总有机碳)，这是最终抛光机混合树脂 出口处UPW质量的指标。 

 在将树脂填充到柱中之后的初始冲洗期间，电阻率快速上升。初始TOC洗脱也被抑制到低 水平，并且ATOC迅速降低。此外，金属杂质的泄漏也减少到ppt (ng/L)水平。

 作为SMT200L的柱冲洗试验的结果，金属杂质(钠、镁、铝、钾、钙、铬、铁、镍、铜、 锌、钼、锡、铅)的泄漏都小于0.1 ppt。 

 不可再生的混床树脂SMT200L对于获得高质量的UPW(超纯水)是极其特别优异的。 

 下表总结了UPW生产系统中使用的UPW终端抛光(UFP)和混床抛光(MBP)的两种混合树脂 的特征(包括类型、成分树脂、冲洗特征等。)。

 随着超纯水中硼的控制越来越严格，一种特殊的螯合树脂(UPW级), 有亲硼吸附能力的, 被 用于去除硼。DIAION ™CRBT03，UPW级螯合树脂, 用n-甲基葡糖胺作为官能团，优化后, 可以使TOC泄漏达到最小。